电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
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膜厚
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的,因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能,从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说,它的工作电压高,电流大,没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高,易烧毁。对于一般的半导体器件,Al层偏薄,则膜的连续性较差,呈岛状或网状结构,学校电子束镀膜仪价格,引起压焊引线困难,造成不易压焊或压焊不牢,从而影响成品率;Al层过厚,学校电子束镀膜仪厂家,引起光刻时图形看不清,造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。
采用电子束蒸发,行星机构在沉积薄膜时均匀转动,各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处,各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用磁控溅射镀膜方法,由于沉积电流和靶电压可以控制,也即是溅射功率可以调节并控制,因此膜厚的可控性和重复性较好,并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
Al膜厚度的测量可采用金属膜厚测量仪,它是根据涡流原理设计制造的无损测厚仪。根据工艺参数,我们制备了一批试样,学校电子束镀膜仪,样品经测试,溅射Al薄膜的平均厚度是1.825μm,电子束蒸发Al薄膜的平均厚度是1.663μm,均符合半导体器件电极对Al膜厚的要求(小信号为1.7±0.15μm;大功率为2.5±0.3μm。
为了更进一步地观测膜厚及表面形貌,样品放入环境扫描电子显微镜philipsXL30-ESEM中进行观测,并根据视频打印机输出的SEM图片可以看出,电子束蒸发的膜厚分散度较大,即均匀性较差。
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电子束蒸发镀膜机的结构组成
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蒸发系列卷绕镀膜设备主要用于在塑料、布、纸、金属箔等带状材料表面真空蒸镀金属膜。产品广泛用于包装、印刷、防伪、纺织、电子工业等领域。本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点
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