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镀膜设备较国外的优缺势

真空镀膜技术是现今应用较广的一种先进技术，也是许多*学科发展的基础技术。中国的真空镀膜技术及镀膜设备的从上世纪60年代发展起来的，80-90年代，真空镀膜技术及镀膜设备得到了长远的发展。随着中国加入WTO，真空蒸发镀膜设备哪里有，经济**化脚部的加快，我国加入了与整个世界经济市场的竞争。中国的真空镀膜技术和镀膜设备面临着机遇和挑战。

国内镀膜设备的发展劣势：

1、观念上的差距

国内的真空镀膜设备的厂家主要考虑的是国内的中、低端市场，迫于价格，只能舍弃设备的性能和可靠换取市场份额，使得厂家缺少对设备研制及实施的长期规划。新技术、新工艺的应用迫切性降低，给国外的厂家进入中国市场创造了巨大的机会。国内的厂家不是靠新技术、新工艺、新设备来引导市场，而是被市场的某些临时需求左右，使得国内的技术和国外的技术差距不断加大，虽然价格低，但镀膜的质量不高。

2、规模和投入的差距

我国的厂商多以中、小型规模居多，综合实力低。我国企业的经济体制是以国有资产为主，普遍经济效益不高，发展后劲不足。

3、新技术、新工艺的装换应用上存在差距

创新力度不足，国内多以价格作为市场竞争的手段，对于设计及工艺大多都是相互抄袭，一些新的技术、工艺得不到有效、及时的转换应用。

4、产品质量的差距

国内的加工设备、加工手段等都不先进，使得产品的质量大多低于国外同类产品。虽然有一些能提高产品质量的方法，但一些加工工艺落后的生产方式无法得到应用。我国自动化操作水平低，镀膜的质量大多依靠操作者的操作水平，而不是靠设备的自动化。

国内设备的发展优势：

1、资源

我国研制生产规模和从业人数上具有一定优势。

2、市场

自从加入WTO，我国成为较大的加工基地，市场发展空间巨大。由于镀膜设备价格低廉的优势，可以将市场扩大大印度、泰国等发展中国家。

3、研制和制造成本

我国的研制、人工、加工成本等都低，是国外无法比拟的优势。真空蒸发镀膜设备

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泰科诺镀膜机

真空镀膜机

镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，真空蒸发镀膜设备生产，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且较终沉积在基片表面，经历成膜过程，较终形成薄膜。

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镀膜设备的真空系统的安装

目前，真空镀膜技术的应用非常广泛，而真空镀膜技术是借助真空镀膜设备完成的。为了满足工艺的要求，就需要获得一定的真空度，而真空度需要真空系统实现。真空系统主要由真空泵、过滤器、冷凝器等组成。为了得到满意的真空度，真空系统在安装时需要注意以下问题：

1、保持真空卫生

从事真空镀膜的车间环境要保持清洁。为避免将污物带入系统成为放气源，影响真空度，装配组件和材料前，需要对它们进行认真的清洁。

2、安装时要采用抽气和找漏相结合的方法

安装时，真空蒸发镀膜设备，不能把很多的真空元件一次性全安装完毕，若发生漏气，找漏会很困难。要一个一个安装，每安装一个，都需要进行抽气和找漏。这样安装可以更加节省时间和方便。

3、安装时，真空蒸发镀膜设备价格，要检查橡皮封口盒金属零件表面，不能有伤痕。真空蒸发镀膜设备

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