北京泰科诺公司(图)-电子束蒸发镀膜机生产-电子束蒸发镀膜机

电子束蒸发与磁控溅射镀膜的分析

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发镀膜机

附着力

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。溅射原子能量比蒸发原子能量高1—2个数量级。高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗清除了附着力不强的溅射原子，增强了溅射原子与基片的附着力，电子束蒸发镀膜机出售，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。

测定附着力所采用的方法是测量Al膜从基片上剥离时所需要的力或者能量，我们采用剥离水法来测定附着力。

设薄膜单位面积的附着能为γ，则宽度为b，长度为a的薄膜的总附着能E=abγ(1)

用于剥离该薄膜的力F所作的功

Wp=Fa(1-sin(θ))(2)

如果是静态剥离并忽略薄膜弯曲时所产生的弹性能，电子束蒸发镀膜机哪家好，则F所作的功近似等于薄膜的总附着能，即Wp=E，于是F=bγ/(1-sin(θ))(3)

(3)式中F随着θ角的变化而变化，不能真正反映薄膜的附着性能。当所加剥离力与薄膜垂直，即θ=0°时，则式简化为

F=bγ(4)

根据测量所得的F便可计算出附着能γ=F/b。如果要直接计算单位长度的附着力f，根据定义并采用上述方法(θ=0°)进行剥离可得f=γ。可见，附着力的大小和附着能γ的数据相同，由于Al膜的附着能γ较高，所以其附着力较大。实验测得的数据是：溅射Al膜的平均附着力25N，电子束蒸发Al膜的平均附着力为9.8N。这些数据和理论分析结论一致。

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电子束蒸发镀膜机的结构组成

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电子束蒸发镀膜机

蒸发系列卷绕镀膜设备主要用于在塑料、布、纸、金属箔等带状材料表面真空蒸镀金属膜。产品广泛用于包装、印刷、防伪、纺织、电子工业等领域。本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点

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电子束蒸发镀膜机原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的**企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发镀膜机

原理：在高真空下，电子枪灯丝加热后发射热电子，电子束蒸发镀膜机生产，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速较和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率，特别是有利于高熔点以及高**属和化合物材料。

技术指标：

可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。

蒸镀薄膜种类：Au， Ti， Cr， Ag， Al， Cu， FeNi， AuGe， Pt， Pb， In， Mo， SiO2等

极限真空：5E-8 Torr（ 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr ）

薄膜均匀性：±4% （ 4英寸 ）

装片：小于6英寸的任意规格的样品若干

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